第69章 检测比制造更难 (第2/2页)

申城微电子，柴文政与丁冉到这边已经一个月时间了，虽然镜片的事已经完成，但光学系统还需两人负责，第一批镜片已经运到，这两天正在考虑如何实验的事。

原计划是要等到实验机完成组装，才能测试，但两人却想早些测试这批镜片是否能实现对应的功能。

光路布置的软件是聊老安排人开发的小程序，利用这个小程序，两人最近已经设计了几十种方案。

但实际情况下，每次镜片的反射，都会损失30%的光能，主要还是极紫外光太容易被吸收了，连空气都可以把它吸收完，所以实验必须在真空条件下进行。

“我们可以制造一个真空环境，先测试镜片的反射强度与吸收光能的比例。”丁冉说道，每天都在电脑上设计光路，不能开展实验，对他们来说心里没底，现在镜片到了，她非常心动。

柴文政摇摇头，说道：“现在的问题是光源，不击打液态金属锡，根本无法产生13.5纳米的极紫外光，你直接使用193纳米的极紫外光测试没有意义。”

“为什么没有意义呢？我们可以通过数据来推演啊。”丁冉仍然坚持着。

“193的极紫外光跟13.5完全是两码事，用什么模型来推演，算法是什么，依据又是什么？”

“可要等到计算组那边出结果，不知道还要有多久，每秒5万次，想想都觉得这中间的难度之大。”丁冉情绪低落，计算组那边迟迟不见进展。

柴文政叹了口气，“听说廖老已经安排人去申请超算了，除了等待也没其他办法。”

“计算组那边大部分都是来自华科院的人，为了解决这个问题，已经把模型拆分，返给华科院的同事们协助计算，好像还请了各高校的数学家协助计算。”丁冉自顾自说，计算组那边已经是华国的顶级团队了。

“以计算组的实力，出结果是早晚的问题，我担心的反而是设备组是否能跟得上，这种微观级别的操作，算法与设备精度必须要匹配才行，我现在终于知道为什么ASmL一点也不担心图纸外泄的问题了，我们在精密设备上距离国外的水平还很远。”

柴文政的担心并非没有道理，设备组那边到现在仍然还有部分关键零部件没有采购到。

核心问题还是EUV镜头组与dUV完全不一样，所有人都是在摸着石头过河，理论与实际操作的差异在这方面完全被无限放大了，而且检测系统方面，还有更大的问题。

与电脑程序的bUG不同，只要不影响程序的运行，软件公司是允许bUG存在的。

但光刻机完全不行，哪怕是纳米级的微小错误，都会让整个生产批次报废，所以能快速检查，实时发现错误并修正也是光刻机的另一大技术壁垒。

ASmL为此还收购了一家光学检测的公司，通过检测晶圆发射的光斑来收集大量实时产生的数据实现快速检测。

所以业内也常有人说，检测比制造更难！