第64章 误会?但结果不错 (第1/2页)
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45还是28,路阳肯定是想直接一步到位的,但他现在不清楚双工件台技术是否匹配,还有海思这边的研发实力,如果选择了后者连设备都启动不了,那就算有系统也白费。
廖锡昌知道路阳的想法,肃然说道:
“选择45还是28,我给诸位一个参考方向,第一,就是要能让机器顺利运行,第二,研发进度的预估,如果28纳米需要用1年时间才出结果,那肯定是选择45纳米,这需要何总这边的考量。”
何洪年皱眉紧思,手中的资料并不复杂,里面详细介绍了每项技术的进度,如果是单工件台技术,28纳米的机会也不小,但是双工件台的话,他不好预估。
几名相关方向的总工也开始议论起来,
“华卓工件的朱教授我认识,去年我曾去那边看过,他们双工件台的技术还停留在低端制程上,单工件台可以达到90纳米的精度,距离我们的要求还很远。”
路阳听后大受打击,2018年的技术还差这么远吗?
廖老说道:“你这个判断是对的,申城微电子90纳米dUV光刻机使用的就是华卓的工件台,资料各位也看到了,关于工件台与控制系统,90纳米的制程技术是比较成熟的,以海思的研发实力,我相信如果选择单工件台,45或者28各位应该有一定的把握,对吗?”
温天洋缓缓说道:“廖老过誉了,工件台主要还是超高精度的控制问题,工件台用于承载硅片,掩模台用于承载掩模板,实现对准、调平调焦、步进和扫描曝光的功能,两者需要在高速、高加速度下实现纳米级甚至亚纳米级的精度,28纳米的精度需要对工件台和掩模台的跟踪定位精度要求小于1纳米。”
另外一名总工补充道:“双工件台,一个台子用于测量,一个台子用于曝光,两者之间的精密同步才是最难的地方,如果研发单工件台,我们无需考虑同步问题,如果是双工件台,那所需的工作量不是翻一倍那么简单。”
路阳开始有点跟不上节奏了,ASmL的EUV光刻机目前使用的也只是单工件台,由此可知两者的之间的技术难度有多大。
廖老沉思几秒,说道:“何总,如果只是让工件台顺利运行,暂时不考虑误差,你们把握如何?”
看来廖老跟路阳的想法一致,都是想一步到位,利用路阳的能力实现优化。
对廖老的问题,何洪年感觉到有些诧异,作为华国芯片第一人,在研发上不该如此激进,想了下还是回答道:
“如果不考虑误差的话,我想年前我们能攻关出来,不过误差的后续调整往往会直接卡住整个项目,到时可能都得一切从来。”
一旁的几名总工也附和道,光刻机本来就是最精密的设备,不考虑误差最后的成品便无法交付。
“既然诸位都签了保密协议,有些事你们知道也无妨,现在我们正全力研发EUV光刻机,在工件台方面,有华科院还有十几所高校的专家正在全力计算,如果两边在一些通用计算上能配合起来,会省很大的功夫。”
廖老也只是找了个借口,没想到海思众人脸上却是一副原来如此的表情。
温天洋这下完全明白了为何在这么关键的时候,华微抽调这么多的研发人员,孤注一掷,押宝华芯,EUV三个字深深印入了他的脑海。
“如果是这样的话,我建议直接上28纳米,双工件台!”
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