第85章 绝对梦境般的另一个世界! (第2/2页)
\哎呀,这简直令人惊叹,无比璀璨啊!\
王放:\呃……\
接着,王放仔细一瞧,立刻洞察了一个关键的疑点:\刘工,敢问,你是不是把Nb线和pc线接错了,导致整台光刻机内部形成了一个dV阻环流的GF电阻网络?\
老刘:\啊,你怎么知道的?\
此时此刻。
王放的话让贾赫顿牛和米谢尔帕两人也找到了光刻机的症结所在。
米谢尔帕接着说:\实话说,一旦光刻机出现这种GF电阻流,它的精度极限就无法超越6纳米的限制。\
贾赫顿牛:\没错,所以我们若不找到新的突破,摆脱当前的通用电阻流,3纳米精度的突破将无从谈起!\
老刘:\这……\
\但是,依据现有的量子力学和光流电理论,制造出5纳米精度以及贵国最新3纳米精度的光刻机原型,都是利用cE电阻流技术,为何我们现在采用的cF电阻流反而使精度倒退了呢?\ 牛伟民:\是啊,贾赫顿牛先生,按理说,在量子力学和光流电刻蚀理论的支持下,cF电阻流应该比cE电阻流的密度更高,体积更小,流动性更强,所以理应能提升光刻机的精度才对。\
然而。
米谢尔帕此刻却无奈地摇头:\不对……\
\实际上,经过我们和导师长达六年的研究,我们才明白,当光刻机达到5纳米,即电阻流达到cE级别后,就不能再遵循这种模式,通过cF、co、cp等有规律的方式提升精度了。\
\否则,4纳米、3纳米、2纳米、1纳米……甚至0.1纳米的光刻机精度研发难度,都会比现在小得多,我们花了六年时间研发的这款3纳米精度光刻机,目前只能算是实验品,还未能真正投入生产和应用。恐怕在接下来的几年里,它也只能停留在试验阶段。\
听到这里,研发室内的所有人,包括研究员、工程师老刘刘国栋、牛伟民何玉婷,乃至智商超群的犹太裔美国人贾赫顿牛和米谢尔帕,都不禁陷入了沉思,低头无语……
贾赫顿牛:\或许,我们千里迢迢赶来,也无法帮助我们的朋友……\
忽然,王放转向了一隅,在实验室的隐蔽处,他似乎在探寻着什么秘密。视线停留于一枚指甲盖大小的橙红物质上,他取下显微镜,于其下仔细观察。接着,他利用蒸馏装置将其溶解,再烘干成一根比发丝还要纤细的线状物......
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